高通量超分辨直写技术与系统

匡翠方

浙江大学光电学院

极端光学技术与仪器全国重点实验室，Email:cfkuang@zju.edu.cn

报告时间：2026年6月18日 15：00-16：00

报告地点：集贤楼524

点扫描双光子激光直写技术凭借其高分辨加工能力、低热影响性、具有真三维加工能力等特点，一直是三维微纳加工与刻写技术中的研究热点。报告介绍近年来团队在点扫描超分辨成像基础上提出的光与物质共限多光子光刻技术，突破了激光直写的光学衍射极限。并进一步介绍提升刻写通量的超分辨激光直写方法、技术及装备，为解决微纳制造提供一种了新途径。

个人简介:

匡翠方，浙江大学光电学院教授，国家杰出青年基金获得者，极端光学技术与仪器全国重点实验室副主任。主要从事超分辨显微成像、超分辨光刻相关研究。主持国家自然科学基金委重大仪器专项基金等各类项目，在国内外学术期刊发表论文200多篇。2019年度王大珩光学奖-中青年科技人员光学奖。成果获得2019年中国技术发明二等奖（2/6），2024获浙江省技术发明一等奖，2024年获中国光学学会技术发明特等奖。